一、高襯度的低電壓VC（voltage contrast）成像

蔡司Gemini電子光學(xué)技術(shù)擁有優(yōu)異的低電壓成像能力，能獲得準(zhǔn)確的電壓襯度（PVC）圖像，用于快速的失效定位。

▲ SRAM區(qū)域的電壓襯度圖像

二、有利于電性表征的不漏磁光學(xué)系統(tǒng)

蔡司Gemini鏡筒可實現(xiàn)不漏磁的超低電壓成像，是納米探針（nanoprobing）測試的理想平臺。具備3nm制程的測試能力，且能實現(xiàn)低至100eV的SEM實時成像，極大地降低電子束輻照損傷。

▲ 80V加速電壓下成像，SRAM區(qū)域和八根納米探針

三、創(chuàng)新的探測器技術(shù)提升速度、分辨率和襯度

   亞表面結(jié)構(gòu)的觀察和快速導(dǎo)航需要高掃描速度、高分辨、高信噪比的高電壓成像。蔡司高速背散射電子探測器（Rapid BSD）滿足了這類使用需求。

▲ 5nm FinFET的背散射電子圖像

四、超大視野的高分辨成像

在大面積成像中實現(xiàn)精度和效率的兼顧需要大視野無畸變成像的能力，Gemini鏡筒的設(shè)計提供了12mm的觀察視野和最大32k x 24k像素的分辨率，可以實現(xiàn)單張圖片的大視野高分辨，也可使用自動的拍圖拼圖工作流程進(jìn)一步提升效率。

▲ 2.5D封裝截面，單張圖大視野成像

五、穩(wěn)定性和易用性

改變電壓、束流時保持聚焦和視野的一致性能顯著提高日常FA工作的效率，蔡司Gemini鏡筒的穩(wěn)定性更好地實現(xiàn)了這一特點。

▲ 切換電子束加速電壓時圖像變化

六、為半導(dǎo)體應(yīng)用專用定制的軟件解決方案

蔡司Solutions Lab可為半導(dǎo)體用戶快速開發(fā)專用于特定場景的定制化解決方案，無論是自動化工作流程、AI助力的特征識別、分割、導(dǎo)航、量測或數(shù)據(jù)管理，我們都能為您提供專業(yè)支持。利用蔡司顯微鏡的潛力，更高效獲得所需的數(shù)據(jù)。

▲ 使用可視化編程工具實現(xiàn)電鏡的自動化工作流程